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GPM-2-300光譜磨平機
1. 無級調(diào)速控制
2. 下方配有吸塵裝置，可吸走磨削物
3. 安全鎖扣，1/4磨面，保護操作員
適用于光譜研究的試樣磨平。
在金相試樣制備和光譜分析應(yīng)用中，試樣的磨平是金相制樣和光譜分析前必不可少的重要工序。GPM-2-300型光譜磨平機整機采用噴塑工藝制作，雙盤獨立控制，磨盤無級調(diào)速，獨特罩殼設(shè)計可有效保障磨樣安全，機箱內(nèi)裝有吸塵裝置可避免環(huán)境污染，該機啟動平穩(wěn)、傳動功率大、噪音低，可滿足不同材料的制備要求，提高試樣的磨拋質(zhì)量和制備效率，是一種非常理想和功能完善的金相制樣制備。
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型號 |
GMP-2-300 |
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磨盤直徑 |
300mm |
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砂盤直徑 |
300mm |
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轉(zhuǎn)速 |
無級調(diào)速100~1400r/min 和四檔速300, 600, 900, 1400 r/min兼具，可切換 |
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轉(zhuǎn)向 |
順時針和逆時針兼具，可切換 |
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電機功率 |
550W |
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顯示及操作 |
數(shù)碼管顯示，薄膜按鍵操作，帶吸塵裝置 |
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輸入電源 |
單相220V, 50Hz, 10A |
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外形尺寸 |
820×440×940mm |
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凈重 |
122kg |
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